| 主权项 |
1.一种一体式遮蔽系统,用于生产PET同位素,构成一壳体,该壳体包括:一位于壳体内部之主隔间,系容置一回旋磁力加速器,该加速器则包括其标准之次系统;第二隔间,包括若干次隔间,次隔间则包括一由阀及压力计组成之第一次隔间用以处理气体靶之靶媒,以及第二次隔间用以水靶之水分流系统,一第三次隔间包含一第一外加辐射护罩并容置包含阀、压力及流量感应器及炉等之外加处理系统于该辐射护罩内部,一第四次隔间包含一第二辐射护罩容置外加之处理系统以及阀、压力及流量感应器及炉等于该第二外加辐射护罩;第三隔间容置一次冷却系统、主要动力分配器、真空系统控制器及离子源气体控制装置;藉由一壳体,该系统形成一封闭之辐射防护系统,壳体系包括四个塑模件区段,藉由第一及第二区段形成主体容置该第一隔间,而该第三及第四区段构成紧密的门以包围该第一隔间于一密封之辐射护罩内,另该等一区段并容置一废气延迟管线并嵌入该第一区段之遮闭物质之中。2.如申请专利范围第1项之系统,其中该四区段包括一密致之水泥本体,系设计用以平衡衰变特性,以及护罩之体积重量比例,以及主要成份系磁铁矿砂之砂袋,用于高度伽玛衰变,以及硼及氢元素以增强中子衰变量。3.如申请专利范围第2项之系统,其中该废气延迟管线包括一形成线圈中之塑胶管,用以达成适当的气体延迟,同时并嵌入该壳体之第一区段之水泥材质之中。4.如申请专利范围第2项之系统,其中该第三及第四区段系做为门并挂载于一实质为"零摩擦力系统"枢轴之滚珠轴承,各枢轴一部份系固定模合于该水泥材质中,以形成该第一及第三区段或第二及第四区段。5.如申请专利范围第1项之系统,其中该第一及第二外加之辐射护罩系形成为包括PE塑胶及铅(Pb)夹心式包覆。6.一种构成一体式PET同位素产生系统之装置,包括:一第一隔间,系容置一回旋磁力加速器,该加速器则包括真空泵浦系统、靶、靶之水冷系统及靶窗冷却系统;一第二隔间,包含若干次隔间,次隔间则包括一由阀及压力计组成之第一次隔间用以处理气体靶之靶媒,以及第二次隔开用以水靶之水分流系统,一第三次隔间包含一第一外加辐射护罩并容置包含阀、压力及流量感应器及炉等之外加处理系统于该辐射护罩内部,一第四次隔间包含一第二辐射护罩容置外加之处理系统以及阀、压力及流量感应器及炉等于该第二外加辐射护罩;一第三隔间容置一次冷却系统、主要动力分配器(18)、真空系统控制器及离子源气体控制装置;藉由一壳体,该系统形成一封闭之辐射防护系统,壳体系包括四个塑模件区段,藉由第一及第二区段形成主体容置该第一隔间,而该第三及第四区段构成紧密的门以包围该第一隔间于一密封之辐射护罩内,另该等一区段并容置一废气延迟管线并嵌入该第一区段之遮闭物质之中。7.如申请专利范围第6项之装置,其中该四区段包括一密致之水泥本体,系设计用以平衡衰变特性,以及护罩之体积重量比例,以及主要成份系磁铁矿砂之砂袋,用于高度伽玛衰变,以及硼及氢元素以增强中子衰变量。8.如申请专利范围第7项之装置,其中该废气延迟管线包括一形成线圈中之塑胶管,用以达成适当的气体延迟,同时并嵌入该壳体之第一区段之水泥材质之中。9.如申请专利范围第7项之装置,其中该第三及第四区段系做为门并挂载于一实质为"零摩擦力系统"枢轴之滚珠轴承,各枢轴一部份系固定模合于该水泥材质中,以形成该第一及第三区段或第二及第四区段。10.如申请专利范围第6项之装置,其中该第一及第二外加之辐射护罩系形成为包括PE塑胶及铅(Pb)夹心式包覆。图式简单说明:第一图系本装置装置于用于PET同位素制造系统之立体图;第二图系第一图所示系统及装置之前视图;第三图系第一图所示系统及装置之顶视图;第四图系如第三图所示之另一视图,其中该装置及系统之辐射护罩门系打开以利于接近其内部之回旋磁力加速器;第五图系如第一图所示系统及装置之左侧视图;以及第六图系如第一图所示系统及装置之右侧视图。 |
