| 主权项 |
1.一液晶显示装置,包括:一第一基板,包括一彩色滤光片;一第二基板,包括一由复数条扫描线和讯号线彼此交错构成之主动矩阵,且该第二基板系实质上平行该第一基板配置;复数个液晶分子,设置于该第一基板和该第二基板之间;一修补线(Repair line),邻接设置于该主动矩阵之外侧;以及一突出结构,设置于该第一基板面对该第二基板之一侧且对应于该修补线之处。2.如申请专利范围第1项所述之液晶显示装置,其中该修补线用以电性连接损坏之讯号线。3.如申请专利范围第1项所述之液晶显示装置,其中该突出结构由低介电系数材料构成。4.如申请专利范围第3项所述之液晶显示装置,其中该突出结构的介电系数系小于该些液晶分子的介电系数。5.如申请专利范围第4项所述之液晶显示装置,其中该突出结构由压克力所构成。6.如申请专利范围第4项所述之液晶显示装置,其中该突出结构由光阻所构成。7.一液晶显示装置之制造方法,包括:提供一第一基板以及一第二基板;形成一由复数条扫描线和讯号线彼此交错构成之主动矩阵于该第二基板之上;设置一修补线邻接于该主动矩阵之外侧;设置一突出结构于该第一基板面对该第二基板之一侧且对应于该修补线之处;以及设置复数个液晶分子于该第一基板和该第二基板之间。8.如申请专利范围第7项所述之制造方法,其中该修补线用以电性连接损坏之讯号线。9.如申请专利范围第7项所述之制造方法,其中该突出结构由低介电系数材料构成。10.如申请专利范围第9项所述之制造方法,其中该突出结构的介电系数系小于该些液晶分子的介电系数。11.如申请专利范围第10项所述之制造方法,其中该突出结构由压克力所构成。12.如申请专利范围第10项所述之制造方法,其中该突出结构由光阻所构成。图式简单说明:第1A图绘示为传统液晶显示装置之示意图。第1B图绘示为传统液晶显示装置周围沿着1B-1B'剖面线之剖面图。第1C图绘示为传统共同电极与修复线之间的等效电路图。第1D图绘示为修补线上的传输示意图。第2A图绘示依照本发明一较佳实施例的一种降低修补线之寄生电容的液晶显示装置之上视图。第2B图绘示依照本发明一较佳实施例的一种降低修补线之寄生电容的液晶显示装置周围沿着2B-2B'剖面线之剖面图。第3图是本实施例共同电极与修补线之间的等效电路图。第4图绘示依照本发明一较佳实施例的一种降低修补线之寄生电容的液晶显示装置制造方法流程图。 |
