发明名称 CELL STRUCTURE FOR ADAPTING A PHOTOLITHOGRAPHY PROCESS IN A SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATING
摘要
申请公布号 KR20070047414(A) 申请公布日期 2007.05.07
申请号 KR20050104118 申请日期 2005.11.02
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 LEE, JEONG HOON;LEE, JUNG HYEON;LEE, DAE YOUP;CHOI, YEON DONG
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
地址