| 发明名称 |
METHOD FOR FABRICATING INTERLAYER OF DIELECTRIC IN SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20070047638(A) |
申请公布日期 |
2007.05.07 |
| 申请号 |
KR20050104552 |
申请日期 |
2005.11.02 |
| 申请人 |
HYNIX SEMICONDUCTOR INC. |
发明人 |
RHO, IL CHEOL;KIM, CHOON HWAN |
| 分类号 |
H01L21/31;H01L21/20;H01L21/8242;H01L27/108 |
主分类号 |
H01L21/31 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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