减少蚀刻偏差之方法

摘要

一种图刻装置，系用来图刻一基板，包含有一主要图案特征以及一牺牲图案特征。主要图案特征及牺牲图案特征皆可被转移至基板之一上方层。而牺牲图案特征配置于距主要图案特征一距离处，且其尺寸小于蚀刻制程之一蚀刻偏差。蚀刻制程可将主要图案特征转移至一下方层，并利用牺牲图案特征调整主要图案特征之一蚀刻行为，且使其自下方层消除。