| 主权项 |
1.一种光学装置之制法,该方法包括: (a)在第一基板上施加乾膜,该乾膜包括:载体基板 和在该载体基板上的第一聚合物层; (b)经由包括将液体组成物涂覆在该第一基板上之 方法在该第一基板上形成第二聚合物层;及 (c)图案化该第一聚合物层及/或该第二聚合物层。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中该第一聚合物 层包括具有式(R1SiO1.5)的单元,式中R1为经取代或未 经取代的有机基;且其中该液体组成物包括具有式 (R2SiO1.5)的单元,式中R2为经取代或未经取代的有机 基,且R1和R2系相同或不同者。 3.如申请专利范围第1或2项之方法,其进一步包括 在该第一基板上形成第三聚合物层,该第三聚合物 层包括具有式(R3SiO1.5)的单元,式中R3为经取代或未 经取代的有机基且与R1及/或R2系相同或不同者。 4.如申请专利范围第1或2项之方法,其中该第一聚 合物层及/或该第二聚合物层系光可成像者,且其 中(c)包括将该第一聚合物层及/或该第二聚合物层 的一部份暴露于光化辐射。 5.如申请专利范围第4项之方法,其中(c)进一步包括 将曝光过的该第一聚合物层及/或该第二聚合物层 与显像剂溶液接触。 6.如申请专利范围第4项之方法,其中该第二聚合物 层系设置于该第一聚合物层之上。 7.如申请专利范围第4项之方法,其中该第一聚合物 层系设置于该第二聚合物层之上。 8.如申请专利范围第4项之方法,其进一步包括在(a) 之后,移除掉该载体基板。 9.如申请专利范围第4项之方法,其中该载体基板为 聚合物膜。 10.一种形成具有光学功能性的印刷线路板之方法, 其包括: (a)在印刷线路板基板上提供波导第一包覆层,其中 该第一包覆层包括具有式(R1SiO1.5)的单元,式中R1为 经取代或未经取代的有机基; (b)在该第一包覆层上施加乾膜,该乾膜包括载体基 板和在该载体基板上的波导核心层,该核心层包括 具有式(R2SiO1.5)的单元,式中R2为经取代或未经取代 的有机基,且其中R1和R2系相同或不同者; (c)图案化该核心层以形成核心结构;及 (d)经由包括将液体聚合物涂覆在该第一包覆层与 该核心结构上之方法在该第一包覆层与该核心结 构上形成波导第二包覆层,其中该液体聚合物包括 具有式(R3SiO1.5)的单元,式中R3为经取代或未经取代 的有机基且与R1及/或R2系相同或不同者。 图式简单说明: 第1A图至第1C图系图解说明根据本发明的范例光学 乾膜;且 第2A图至第2F图系图解说明根据本发明具有光学功 能性的印刷线路板在其形成的不同阶段之图解。 |
