曝光装置、曝光方法、及半导体装置之制造方法

摘要

本发明之一形态之曝光装置包含照明光学系统及投影光学系统，上述照明光学系统系形成有效光源，该有效光源具有：第1偏光区域，其于有效光源面，自中心位置以放射状方向之电向量成分支配之偏振光照亮光罩图案；及第2偏光区域，其以电向量之振动于特定方向不具偏移之光照亮上述光罩图案；上述投影光学系统系将上述光罩图案之像投影至被处理体上。