光阻之剥离方法

摘要

本发明之目的系提供一种可提高存在于基板表面的光阻之剥离性能之光阻剥离方法,及具有优越的经离子植入的光阻的剥离性能之光阻剥离方法。该光阻剥离方法之特征为依序包含以氧化剂改质光阻之改质制程及以含有胺化合物和伸烷基二醇类的剥离液剥离光阻之剥离制程。另外,氧化剂较佳为含有过氧化氢之溶液。