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发明名称 STRIP VAPOR SYSTEM FOR PHOTO RESIST OF SEMICONDUCTOR WAFER AND METHOD THEREOF
摘要
申请公布号 KR100713707(B1) 申请公布日期 2007.04.25
申请号 KR20060040306 申请日期 2006.05.04
申请人 KOREA INSTITUTE OF MACHINERY & MATERIALS;DAWONSYS CO., LTD. 发明人 PARK, HYUNG JIN;KIM, YOUNG DO;LIM, JIN SUB;CHA, MIN SUK;SONG, YOUNG HOON
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
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