| 发明名称 | 对碳基硬掩模进行开口的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种对碳基硬掩模层(18)进行开口的方法，其中所述碳基硬掩模层由优选地包含至少60％的碳和10％～40％的氢的无定形碳组成，并且覆盖在介电层(16)上。硬掩模通过等离子刻蚀用由H<SUB>2</SUB>、N<SUB>2</SUB>和CO组成的刻蚀气体开口。刻蚀优选地在具有被HF加偏压的基座电极和电容性地被VHF加偏压的喷头的等离子刻蚀反应器中进行。 | ||
| 申请公布号 | CN1953146A | 申请公布日期 | 2007.04.25 |
| 申请号 | CN200610140012.X | 申请日期 | 2006.10.08 |
| 申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 王竹戌;宋兴礼;马绍铭;浦远 |
| 分类号 | H01L21/311(2006.01) | 主分类号 | H01L21/311(2006.01) |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 赵飞 |
| 主权项 | 1.一种刻蚀方法，用来刻蚀形成在衬底上并至少包含40％的碳的碳基层，所述方法包括将所述碳基层暴露于包括氢气、氮气和一氧化碳的刻蚀气体的等离子。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||