| 发明名称 | 气体喷头、光刻装置和气体喷头的应用 | ||
| 摘要 | 一种在光学装置中调节至少一个光路的气体喷头，其中所述气体喷头包括具有喷头出口侧以向光路供给气体的气体分配室，所述气体分配室配置成将气体分配到光路，其中所述气体分配室包括大体上尖锐的锥形尖端。 | ||
| 申请公布号 | CN1952786A | 申请公布日期 | 2007.04.25 |
| 申请号 | CN200610135675.2 | 申请日期 | 2006.10.20 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | T·A·R·范恩佩尔;R·范德哈姆;N·J·J·罗塞特 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京 |
| 主权项 | 1.一种调节光刻装置中的至少一个光路的气体喷头，所述气体喷头包括具有喷头出口侧以向所述光路供给气体的气体分配室，所述气体分配室配置成将所述气体分配到所述光路，其中所述气体分配室包括大体上尖锐的锥形尖端。 | ||
| 地址 | 荷兰费尔德霍芬 | ||