发明名称 Plasma processing apparatus
摘要
申请公布号 KR100710597(B1) 申请公布日期 2007.04.24
申请号 KR20040102987 申请日期 2004.12.08
申请人 发明人
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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