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1.一种基板检查方法,系利用经由摄影手段对零件 组装基板摄影所得到的画像,对前述基板上的复数 个被检查部位执行检查的方法,其特征为包含准备 步骤与检查步骤, 上述准备步骤,含有以下的步骤A、B、C、及D: 步骤A,以前述摄影手段的视野对准基板上的规定 区域,取得应可得到的基准画像; 步骤B,取得摄影手段与前述基准画像所对应之基 板上区域在位置对准时所必要的摄影手段与基板 之位置关系; 步骤C,对前述基准画像上的被检查部位,设定检查 区域;及 步骤D,将前述步骤A所取得的基准画像、前述步骤B 所取得的摄影手段与基板的位置关系、以及步骤C 所设定的检查区域之对基准画像的位置关系,分别 予以对应登录, 前述检查步骤,包含以下第1、第2、第3、及第4步 骤: 第1步骤,根据前述步骤D所登录的摄影手段与基板 的位置关系,以前述摄影手段对检查对象基板作位 置对准再执行摄影,作成处理对象画像; 第2步骤,以第1步骤所作成的处理对象画像,与前述 步骤D所登录的基准画像作比对,检出处理对象画 像相对于基准画像的偏离量; 第3步骤,以前述第2步骤所检出的偏离量,对前述步 骤D所登录的检查区域与基准画像的位置关系作校 正,根据该校正后的位置关系而在处理对象画像上 设定检查区域;及 第4步骤,利用前述第3步骤所设定之检查区域内的 画像资料,执行前述检查所需的画像处理。 2.如申请专利范围第1项之基板检查方法,其中: 前述步骤A包含:步骤A1,将品质良好的基准基板因 应于前述摄影手段的视野大小分成复数个区域,对 此等各区域执行摄影;步骤A2,将步骤A1所生成之各 区域的画像予以合成,以生成前述基准基板的全体 画像;步骤A3,于该全体画像上,对含有规定数的被 检查部位、且因应前述摄影手段的视野大小的区 域予以设定;及步骤A4,将步骤A3所设定区域内的画 像,设定当作前述基准画像, 前述步骤C包含:步骤C1,从对应于前述基准基板的 基板设计资料,抽出与前述步骤A4所设定之基准画 像对应之区域内的基板设计资料;及步骤C2,利用所 抽出的基板设计资料,对前述基准画像决定其检查 区域之设定条件。 3.如申请专利范围第1项之基板检查方法,其中: 前述步骤A3中,系对前述基准基板的全体画像,将前 述步骤A1摄影时所使用区域的对应区域作设定, 前述步骤A4中,系将前述步骤A3所设定各区域的画 像,当作个别的基准画像作设定。 4.如申请专利范围第1项之基板检查方法,其中: 前述步骤A3中,系根据对应于前述基准基板的基板 设计资料,决定基板上规定之被检查部位之检查区 域的设定条件,再依据该设定条件设定含有检查区 域的区域。 5.如申请专利范围第1项之基板检查方法,其中: 前述步骤A包含:步骤A1,根据前述基板的设计资料, 决定基板上规定的被检查部位之检查区域的设定 条件;及步骤A2,对于品质良好的基准基板,依据前 述步骤A1所决定的设定条件,而使检查区域被包含 于视野的方式将前述摄影手段作位置对准并执行 摄影,再将所得到的画像当作基准画像, 前述步骤C包含:步骤C1,将前述基准画像上的被检 查部位予以检出;步骤C2,根据步骤A1所决定的设定 条件,而在前述基准画像已设定检查区域时,对该 等检查区域中的被检查部位的偏离量予以检出;及 步骤C3,根据步骤C2所检出的偏离量,对前述检查区 域的设定位置作校正。 6.如申请专利范围第1项之基板检查方法,其中: 前述步骤D所登录之摄影手段与基板的位置关系, 系将对应于前述摄影手段视野的基板上区域内的 特定位置,以由前述基板上的规定基准点看到的相 对座标予以表示者。 7.一种基板检查装置,系利用对零件组装基板摄影 所得到的画像,对前述基板上的复数个被检查部位 执行检查的装置,具备有: 将检查对象基板以前述被检查部位向上的状态予 以支持的基板工作台; 从上方对前述基板工作台所支持的基板作摄影的 摄影手段; 使前述摄影手段及基板工作台的至少一方沿水平 方向移动的移动手段; 记忆体,其登录有:于前述摄影手段的视野对准检 查对象基板上的规定区域时所应获得的基准画像 、获得该基准画像时之摄影手段与基板的位置关 系、及检查区域相对于基准画像的位置关系; 位置调整手段,其控制前述移动手段的移动量,而 将该摄影手段与基板的位置关系,调整成与记忆体 所登录的位置关系相同; 处理对象画像生成手段,驱动由前述位置调整手段 所调整后的前述摄影手段,以生成处理对象画像; 偏离量检出手段,将前述处理对象画像与前述基准 画像作比对,将处理对象画像之对于基准画像的偏 离量予以检出; 区域设定手段,藉由前述偏离量检出手段所检出的 偏离量,对登录于前述记忆体的检查区域与基准画 像的位置关系作校正,根据该校正后的位置关系, 于前述处理对象画像上设定检查区域;及 画像处理手段,利用前述区域设定手段所设定之检 查区域内的画像资料,执行前述检查所必要的画像 处理。 8.如申请专利范围第7项之基板检查装置,再具备: 摄影控制手段,系在品质良好的基准基板由前述基 板工作台所支持的状态下,以前述基准基板因应于 摄影手段视野的大小分成复数个区域而被摄影的 方式,控制前述移动手段及摄影手段的动作; 画像合成手段,将由前述摄影控制手段的控制所得 到之各画像作合成,以生成前述基准基板之全体画 像; 基准画像抽出手段,于前述全体画像上,将包含规 定数量之被检查部位且因应前述摄影手段视野大 小的区域予以设定,再将该区域内的画像抽出当作 前述基准画像; 条件决定手段,从被抽出前述基准画像之区域内的 基板设计资料,决定检查区域相对于前述基准画像 的设定条件;及 登录手段,将前述基准画像登录于前述记忆体,且 将根据前述条件决定手段所决定的设定条件之检 查区域与基准画像的位置关系、及得到该基准画 像时之基准基板与摄影手段的位置关系予以抽出, 再将此等位置关系登录于前述记忆体。 9.如申请专利范围第7项之基板检查装置,再具备: 条件决定手段,根据前述基板的设计资料,决定基 板上的检查区域相对于规定的被检查部位之设定 条件; 位置关系决定手段,以经由前述条件决定手段所决 定条件的检查区域可包含于摄影手段的视野之方 式,来决定前述摄影手段与基板的位置关系; 摄影控制手段,于前述基板工作台将品质良好的基 准基板予以支持的状态下,以前述基板相对于摄影 手段、在由前述位置关系决定手段所决定的位置 关系之状态下被摄影之方式,而控制前述移动手段 及摄影手段的动作; 检出手段,将前述摄影控制手段的控制所得到的画 像上之前述被检查部位予以检出,且在藉由前述条 件决定手段所决定之设定条件对前述画像上的检 查区域作设定之场合,将被检查部位相对于该检查 区域的偏离量予以检出; 校正手段,根据前述检出手段所检出的偏离量,对 前述检查区域的设定位置予以校正;及 登录手段,将由前述摄影控制手段的控制所生成的 画像当作基准画像登录于前述记忆体,且将前述位 置关系决定手段所决定之摄影手段与基板的位置 关系、以及根据前述校正手段所校正的设定位置 之检查区域与基准画像的位置关系,登录于前述记 忆体。 图式简单说明: 第1图系本发明一实施例相关基板检查装置的方块 图。 第2图系表示基板的基准画像与检查区域的关系的 说明图。 第3图系表示为了作成全体画像之画像叠合处理的 顺序的说明图。 第4图系表示为了作成全体画像而作成之6枚画像 的说明图。 第5图系表示经由第4图的画像作成全体画像之过 程的说明图。 第6图系表示经由第5图的处理所作成全体画像的 说明图。 第7图系表示处理对象画像的偏离量之检出处理的 说明图。 第8图系表示学习处理顺序的流程图。 第9图系表示检查顺序的流程图。 第10图系表示实施例2的全体画像的构成的说明图 。 第11图系表示基准画像与检查区域的关系的说明 图。 第12图系表示处理对象画像的偏离量之检出处理 的说明图。 第13图系表示检查区域的校正处理的说明图。 第14图系表示实施例2的检查顺序的流程图。 第15图系表示实施例3之全体画像之构成的说明图 。 第16图系表示基准画像与检查区域的关系的说明 图。 第17图系表示实施例4之学习处理顺序之流程图。 第18图系表示基准画像的偏离量之检出处理的说 明图。 |
