发明名称 组合掩模及制造设备和方法,有机EL装置制造设备和方法
摘要 一种组合掩模,包括多个沉积掩模,每个具有沉积缝隙阵列的沉积掩模相应于沉积图案形成;和其上沉积掩模被排列的具有多个开口的基板被提供。沉积掩模通过接合单元以可脱离的方式被保持到基板上,和用来在基板上定位沉积掩模的对准标记被形成在基板上。另外,提供了用于制造组合掩模的方法和设备,用于使用组合掩模制造有机EL装置的方法和设备,和有机EL装置。
申请公布号 CN1311570C 申请公布日期 2007.04.18
申请号 CN02105638.2 申请日期 2002.01.31
申请人 东丽株式会社 发明人 藤森茂雄;北村义之;金森浩充;池田武史;冈哲雄
分类号 H01L51/56(2006.01);H05B33/10(2006.01);C23C14/04(2006.01);G09F9/00(2006.01) 主分类号 H01L51/56(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 梁永
主权项 1.一种组合掩模,包括:多个沉积掩模,每个具有沉积缝隙阵列的沉积掩模相应于沉积图案形成;和在具有多个开口的基板上沉积掩模被排列,其中所述沉积掩模被放置在所述开口的位置,每个开口的面积大于所述沉积缝隙阵列的面积,其中沉积掩模通过接合单元以可脱离的方式被保持到基板上,和其中用来在基板上定位沉积掩模的对准标记被形成在基板上。
地址 日本东京都