发明名称 |
组合掩模及制造设备和方法,有机EL装置制造设备和方法 |
摘要 |
一种组合掩模,包括多个沉积掩模,每个具有沉积缝隙阵列的沉积掩模相应于沉积图案形成;和其上沉积掩模被排列的具有多个开口的基板被提供。沉积掩模通过接合单元以可脱离的方式被保持到基板上,和用来在基板上定位沉积掩模的对准标记被形成在基板上。另外,提供了用于制造组合掩模的方法和设备,用于使用组合掩模制造有机EL装置的方法和设备,和有机EL装置。 |
申请公布号 |
CN1311570C |
申请公布日期 |
2007.04.18 |
申请号 |
CN02105638.2 |
申请日期 |
2002.01.31 |
申请人 |
东丽株式会社 |
发明人 |
藤森茂雄;北村义之;金森浩充;池田武史;冈哲雄 |
分类号 |
H01L51/56(2006.01);H05B33/10(2006.01);C23C14/04(2006.01);G09F9/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L51/56(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
梁永 |
主权项 |
1.一种组合掩模,包括:多个沉积掩模,每个具有沉积缝隙阵列的沉积掩模相应于沉积图案形成;和在具有多个开口的基板上沉积掩模被排列,其中所述沉积掩模被放置在所述开口的位置,每个开口的面积大于所述沉积缝隙阵列的面积,其中沉积掩模通过接合单元以可脱离的方式被保持到基板上,和其中用来在基板上定位沉积掩模的对准标记被形成在基板上。 |
地址 |
日本东京都 |