| 发明名称 | 包括喷头电极和加热器的用于等离子处理的设备 | ||
| 摘要 | 一种等离子处理设备(100)包括与喷头电极(200)热接触的加热器(700)，和与加热器(700)热接触以在半导体衬底处理过程中将喷头电极(200)保持在期望温度的温度控制的顶板(800)。气体分配元件(500)供应处理气体和射频(RF)功率至喷头电极(200)。 | ||
| 申请公布号 | CN1950545A | 申请公布日期 | 2007.04.18 |
| 申请号 | CN200580013774.7 | 申请日期 | 2005.04.11 |
| 申请人 | 兰姆研究公司 | 发明人 | 拉金德·丁德萨;埃里克·兰兹 |
| 分类号 | C23F1/00(2006.01);H01L21/306(2006.01) | 主分类号 | C23F1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 赵科 |
| 主权项 | 1.一种喷头电极组件，包括：喷头电极，适用于被安装在真空室的内部，并供应处理气体至所述喷头电极和底电极之间的间隙，其中半导体衬底被支撑于所述底电极上；气体分配元件，被连接到所述喷头电极；热路径元件，被连接到所述气体分配元件；以及加热器，被连接到所述热路径元件；其中所述加热器通过包括所述气体分配元件和所述热路径元件的热路径传输热至所述喷头电极。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚 | ||