| 发明名称 | 显影方法及显影装置 | ||
| 摘要 | 本发明的显影方法和显影装置中，浓度测定部(222)采取一部分调合罐(186)内的显影液，用吸光光度法测定抗蚀剂浓度，将测定结果(抗蚀剂浓度测定值)传送到控制部(240)。控制部(240)控制TMAH原液供给管(200)、溶媒供给管(204)以及排泄管(208)的各个开关阀(210)、(212)、(216)，进行显影液的成分调整，使调合罐(186)内显影液的TMAH浓度是与维持显影速率为一定的抗蚀剂浓度测定值对应的TMAH浓度值。从调合罐(186)向供给罐(188)移送的显影液，由泵(228)驱动通过显影液供给管(224)送到显影处理部(126)的显影液喷嘴DN。因此，在显影处理中，即使多次再利用显影液，也能确保显影均匀性。 | ||
| 申请公布号 | CN1311303C | 申请公布日期 | 2007.04.18 |
| 申请号 | CN200310123329.9 | 申请日期 | 2003.11.15 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 立山清久;野村雅文;筱木武虎 |
| 分类号 | G03F7/30(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/30(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 温大鹏;杨松龄 |
| 主权项 | 1、一种显影方法，具有：回收在对被处理基片上的抗蚀剂膜的显影处理中使用的碱性显影液的工序；测定回收的上述显影液的抗蚀剂浓度的工序；计算与为了得到显影均匀性的上述抗蚀剂浓度测定值对应的碱浓度值的工序；调整上述显影液成分以达到计算出的上述碱浓度值的工序；将经过成分调整的上述显影液再利用于上述显影处理的工序。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||