发明名称 RADIATION SENSITIVE COPOLYMERS, PHOTORESIST COMPOSITIONS THEREOF AND DEEP UV BILAYER SYSTEMS THEREOF
摘要
申请公布号 EP1257879(B1) 申请公布日期 2007.04.18
申请号 EP20000955483 申请日期 2000.08.11
申请人 FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS USA, INC. 发明人 FOSTER, PATRICK;BIAFORE, JOHN, JOSEPH;SPAZIANO, GREGORY, DOMENIC
分类号 G03F7/039;G03F7/004;C08F220/12;C08F230/08;C08F222/06;G03F7/075;G03F7/09;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
主权项
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