| 摘要 |
본 발명의 EUV 리소그래피 장치(10)에서, 오염 민감성 구성요소의 수명을 늘이기 위해서 보호 모듈 내에 오염 민감성 구성요소를 배열할 것이 제안된다. 보호 모듈은 적어도 하나의 개구(37-47)를 갖는 하우징(23-29)를 포함하고, 하우징 내에는 적어도 하나의 구성요소(13a, 13b, 15, 16, 18, 19)가 배열되고, 하우징에는 하우징(23-29) 내로 가스 유동을 도입하기 위해 적어도 하나의 가스 공급부(30-36)가 제공되고, 가스 유동은 적어도 하나의 개구(37-47)를 통하여 방출된다. 오염 물질이 보호 모듈 내로 침투하는 것을 효율적으로 방지하기 위해, 광원(48-56)이 적어도 하나의 개구(37-47)에 배열되고, 광원은 하나 이상의 파장을 갖는 개구(37-47)를 조명하고, 이에 의해 오염 물질이 개구(37-47)를 통하여 침투하기 전에 해리될 수 있다. |
