métodos para produzir micro-e nano-estruturas isoladas utilizando litografia suave ou de impressão

摘要

"MéTODOS PARA PRODUZIR MICRO- E NANO-ESTRUTURAS ISOLADAS UTILIZANDO LITOGRAFIA SUAVE OU DE IMPRESSãO". O assunto em discussão divulgado pela presente invenção descreve o uso de materiais baseados em elastómeros fluoretados, particularmente, materiais baseados em perfluoropoliéter (PFPE), em aplicações litográficas suaves ou de impressão de alta resolução, tal como moldagem de réplica em microescala ou em nanoescala e a primeira moldagem de nanocontato de materiais orgânicos para gerar características de alta fidelidade usando-se um molde elastomérico. Conseqüentemente, o assunto em discussão divulgado no momento descreve um método para produzir namoestruturas isoladas livres de qualquer forma usando-se técnicas litográficas suaves ou de impressão.