PROCEDIMIENTO PVD PARA EL REVESTIMIENTO DE SUSTRATOS MEDIANTE PROYECCION CATODICA DE TIPO MAGNETRON.

摘要

Procedimiento PVD para el revestimiento de substratos, en el que después de un tratamiento previo se efectúa un revestimiento mediante proyección catódica, caracterizado porque el substrato es tratado previamente en el vapor de una proyección catódica pulsante, ayudada por campos magnéticos, porque durante el tratamiento previo se usa, para la ayuda por campos magnéticos, una disposición de campos magnéticos del tipo del cátodo de un magnetrón con una intensidad de la componente horizontal delante del blanco de 100 a 1.500 Gauss, y porque la densidad de potencia de la descarga pulsante durante el tratamiento previo está situada por