| 发明名称 | 光敏性组合物和光敏性平版印版 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光敏性组合物，由该组合物能获得具有优异耐溶剂性和优异耐磨性的涂膜，并且该组合物能提供一种光敏性平版印版，该印版具有优异的耐溶剂性，特别是对于在UV油墨印刷中使用的UV油墨洗涤油的耐性，以及具有优异的印版耐印力。该光敏性组合物含有在侧链中具有巴比土酸基团的树脂。本发明还公开了一种光敏性平版印版，它包含载体和位于载体表面上的含有所述光敏性组合物的光敏层。 | ||
| 申请公布号 | CN1309561C | 申请公布日期 | 2007.04.11 |
| 申请号 | CN02825025.7 | 申请日期 | 2002.12.10 |
| 申请人 | 柯达彩色绘图有限公司 | 发明人 | Y·伊施祖卡;Y·科吉马;Y·阿萨瓦 |
| 分类号 | B41C1/10(2006.01);B41M5/36(2006.01);G03F7/021(2006.01);G03F7/023(2006.01);G03F7/032(2006.01);G03F7/033(2006.01);G03F7/035(2006.01) | 主分类号 | B41C1/10(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 郭广迅;刘冬 |
| 主权项 | 1.一种光敏性组合物，其特征在于它含有一种在侧链中具有巴比土酸基团的树脂。 | ||
| 地址 | 美国康涅狄格州 | ||