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发明名称
Abscheidungsverfahren von einer mit Halogen dotierten Si02-Schicht
摘要
申请公布号
DE69837124(D1)
申请公布日期
2007.04.05
申请号
DE19986037124
申请日期
1998.04.17
申请人
APPLIED MATERIALS INC.
发明人
SUGIARTO, DIAN;HUANG, JUDY H.;CHEUNG, DAVID
分类号
H01L21/316;C23C16/40
主分类号
H01L21/316
代理机构
代理人
主权项
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