| 发明名称 | 基板处理装置、涂敷装置及涂敷方法 | ||
| 摘要 | 提供一种不使用旋转机构，就可以使基板的被处理面朝向下方吸附在吸附板上的基板处理装置、涂敷装置及涂敷方法。该涂敷装置1a，利用基板处理单元2的毛细管现象使储存在基板10下方的涂敷液上升，使所上升的所述涂敷液接触朝向下方的基板10的被涂敷面，通过使基板处理单元2和基板10相对移动，在被涂敷面上形成涂敷膜，该涂敷装置具有：可以自由装卸地保持基板10的保持单元5a；在使基板10的被处理面朝向下方的状态下，从保持单元5a吸附基板10的吸附单元3；和使基板处理单元2和/或吸附单元3在水平面内移动的移动单元4。 | ||
| 申请公布号 | CN1939601A | 申请公布日期 | 2007.04.04 |
| 申请号 | CN200610115921.8 | 申请日期 | 2004.04.09 |
| 申请人 | HOYA株式会社 | 发明人 | 元村秀峰 |
| 分类号 | B05C5/00(2006.01);G03F1/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/26(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | B05C5/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 任默闻 |
| 主权项 | 1.一种光掩模坯料的制造方法，该制造方法包括如下工序：利用喷嘴的毛细管现象使涂敷液上升，使所上升的所述涂敷液接触朝向下方的基板的被涂敷面，通过使所述喷嘴和所述基板相对地移动，在所述被涂敷面上形成涂敷膜，该制造方法的特征在于，包括：使所述基板的被涂敷面朝向下方地将所述基板设置在保持单元上的步骤；在将所述基板的被涂敷面朝向下方的状态下，使所述保持单元和/或所述吸附单元相对地上下移动而接近的步骤；所述吸附单元吸附所述基板的步骤；使所述保持单元和/或所述吸附单元相对地上下移动而分离的步骤；以及使所述喷嘴和/或所述吸附单元在水平面内相对地移动，在所述基板的被涂敷面上形成涂敷膜的步骤。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||