| 发明名称 | 浸液曝光用液体以及浸液曝光方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供一种在浸液曝光方法中，折射率大于纯水，防止光致抗蚀膜或其上层膜成分的洗脱或溶解，能够抑制抗蚀图案生成时的缺陷的浸液曝光用液体、以及利用该液体的浸液曝光方法。一种浸液用曝光液体，其在通过投影光学系统的透镜和基板之间充满的液体进行曝光的浸液曝光装置或浸液曝光方法中使用，在浸液曝光装置工作的温度区域内是液体，是包含脂环烃化合物或在环结构中含有硅原子的环烃化合物。 | ||
| 申请公布号 | CN1943013A | 申请公布日期 | 2007.04.04 |
| 申请号 | CN200580005118.2 | 申请日期 | 2005.05.19 |
| 申请人 | JSR株式会社 | 发明人 | 宫松隆;根本宏明;王勇 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F7/38(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王健 |
| 主权项 | 1、浸液曝光用液体，该液体用于通过投影光学系统的透镜和基板之间充满的液体进行曝光的浸液曝光装置或浸液曝光方法，其特征在于：该液体在上述浸液曝光装置工作的温度范围内是液体，该液体包含脂环烃化合物或在环结构中含有硅原子的环烃化合物。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||