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发明名称 APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE WITH PLASMA
摘要
申请公布号 KR20070036985(A) 申请公布日期 2007.04.04
申请号 KR20050092123 申请日期 2005.09.30
申请人 ADP ENGINEERING CO., LTD. 发明人 LEE, YOUNG JONG;CHOI, JUN YOUNG;HWANG, YOUNG JOO
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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