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发明名称 APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE USING PLASMA
摘要
申请公布号 KR20070036270(A) 申请公布日期 2007.04.03
申请号 KR20050091104 申请日期 2005.09.29
申请人 ADP ENGINEERING CO., LTD. 发明人 LEE, YOUNG JONG;CHOI, JUN YOUNG;HWANG, YOUNG JOO;LEE, JEONG BIN;LEE, SEOUNG WOOK;KOO, BYUNG HEE
分类号 H01L21/302;H01L21/3065 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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