| 主权项 |
1.一种后电化学电镀洁净装置,适用于电镀一晶圆 后之洁净,至少包含: 一去离子水供应装置,具有一第一管路,用以传输 一去离子水; 一柠檬酸供应装置,具有一第二管路,用以传输一 柠檬酸溶液; 一流量调节阀,位于该第二管路上,调节来自该柠 檬酸供应装置之该柠檬酸溶液之一柠檬酸流量; 一混合槽,与该第一管路及该第二管路相连接,接 收并混合该去离子水及该柠檬酸溶液成为一混合 柠檬酸溶液,并具有一第三管路; 一流量调节装置,位于该第三管路上,用以调节来 自该混合槽之该混合柠檬酸溶液之一混合流量;以 及 一晶圆旋转清洗装置,与该第三管路相连接,接收 经该流量调节装置调节后之该混合柠檬酸溶液,旋 转清洗该晶圆一预定清洗时间, 其中,藉由调整该柠檬酸流量,以决定该混合柠檬 酸溶液之一浓度。 2.如申请专利范围第1项所述之洁净装置,更包含一 第一气阀、一第二气阀以及一压力开关,其中该第 一气阀位于该第一管路上,以控制该去离子水之传 送,该第二气阀位于该第二管路上,以控制该柠檬 酸溶液之传送,且在控制上与该第一气阀同时作动 ,该压力开关与该第一气阀及该第二气阀相连通, 并具有一讯号传递装置与该柠檬酸供应装置相连, 当该第一气阀开启时产生一气压,触发该压力开关 ,该压力开关传送一请求讯号至该柠檬酸供应装置 ,使柠檬酸溶液供应装置提供该柠檬酸溶液。 3.如申请专利范围第2项所述之洁净装置,更包含一 止回阀,位于该第二气阀与该流量调节阀之间。 4.如申请专利范围第1项所述之洁净装置,其中上述 之流量调节阀为一针阀。 5.如申请专利范围第1项所述之洁净装置,更包含一 流量感测器,位于该流量调节阀之后。 6.如申请专利范围第1项所述之洁净装置,其中上述 之混合槽更包含一液位感测器,用以判断是否继续 混合。 7.如申请专利范围第6项所述之洁净装置,更包含一 传送阀、一供给槽与一供给阀,其中该传送阀位于 该混合槽之后,用以控制该混合柠檬酸溶液之传送 ,该供给槽位于该传送阀之后,用以暂存该混合柠 檬酸溶液,并具有一输送感测器与一低液位感测器 ,该输送感测器用以判断是否须使该传送阀开启, 以使该混合柠檬酸溶液进入该供给槽,该低液位感 测器用以判断该洁净装置是否处于异常状态,该供 给阀位于该供给槽与该流量调节装置之间,用以控 制该混合柠檬酸溶液之传送。 8.如申请专利范围第1项所述之洁净装置,更包含一 流量计与一阀门,该流量计位于该流量调节装置之 后,该阀门位于该流量计之后。 9.如申请专利范围第1项所述之洁净装置,更包含一 手动阀,位于该第二管路上,该柠檬酸供应装置与 该流量调节阀之间。 10.如申请专利范围第1项所述之洁净装置,其中该 浓度为约0.1%至10%。 11.如申请专利范围第1项所述之洁净装置,其中该 混合流量为约100毫升/分钟至2000毫升/分钟。 12.如申请专利范围第1项所述之洁净装置,其中该 预定清洗时间为约5秒至5分钟。 13.一种后电化学电镀洁净装置,适用于电镀一晶圆 后之洁净,至少包含: 一去离子水供应装置,具有一第一管路,用以传输 一去离子水; 一第一气阀,位于第一管路上、,该去离子水供应 装置之后; 一柠檬酸供应装置,具有一第二管路,用以传输一 柠檬酸溶液; 一第二气阀,位于第二管路上,该柠檬酸供应装置 之后; 一压力开关,与该第一气阀及第二气阀相连接,并 具有一讯号传递装置与该柠檬酸供应装置相连,当 该第一气阀开启时产生一气压,触发该压力开关, 该压力开关传送一请求讯号至该柠檬酸供应装置, 使柠檬酸溶液供应装置提供该柠檬酸溶液; 一流量调节阀,位于该第二管路上,该第二气阀之 后,用以调节该柠檬酸溶液之一柠檬酸流量; 一混合槽,与该第一管路及该第二管路相连接,一 接收并混合该去离子水及该柠檬酸溶液成为一混 合柠檬酸溶液,并具有一第三管路; 一传送阀,位于该第三管路上,该混合槽之后; 一供给槽,位于该第三管路上,该传送阀之后,用以 暂存该混合柠檬酸溶液; 一供给阀,位于该第三管路上,该供给槽之后; 一流量调节装置,位于该第三管路上,该供给阀之 后,用以调节该混合柠檬酸溶液之一混合流量;以 及 一晶圆旋转清洗装置,与该第三管路相连接,接收 经该流量调节装置调节后之该混合柠檬酸溶液,以 旋转清洗、乾燥该晶圆。 14.如申请专利范围第13项所述之洁净装置,更包含 一止回阀,位于该第二气阀与该流量调节阀之间。 15.如申请专利范围第13项所述之洁净装置,更包含 一流量感测器,位于该流量调节阀之后。 16.如申请专利范围第13项所述之洁净装置,其中上 述之混合槽更包含一液位感测器,用以判断是否继 续混合。 17.如申请专利范围第13项所述之洁净装置,其中上 述之供给槽更包含一输送感测器,用以判断是否须 使该传送阀开启。 18.如申请专利范围第17项所述之洁净装置,其中上 述之供给槽更包含一低液位感测器,用以判断该洁 净装置是否处于异常状态。 19.如申请专利范围第13项所述之洁净装置,更包含 一流量计与一阀门,该流量计位于该流量调节装置 之后,该阀门位于该流量计之后。 20.一种后电化学电镀洁净方法,至少包含: 提供一去离子水; 提供一柠檬酸溶液; 调节该柠檬酸溶液之一柠檬酸流量; 混合该去离子水与该柠檬酸溶液,以形成一混合柠 檬酸溶液,其中该混合柠檬酸溶液之一浓度系由该 柠檬酸溶液之该流量决定; 调节该混合柠檬酸溶液之一混合流量;以及 旋转清洗该晶圆。 21.如申请专利范围第20项所述之洁净方法,其中上 述之混合柠檬酸溶液之该浓度为约0.1%至10%。 22.如申请专利范围第21项所述之洁净方法,其中上 述之混合柠檬酸溶液之该浓度为约0.36%至1.2%。 23.如申请专利范围第20项所述之洁净方法,其中上 述之混合柠檬酸溶液之该流量为约100毫升/分钟至 2000毫升/分钟。 24.如申请专利范围第23项所述之洁净方法,其中上 述之混合柠檬酸溶液之该流量为约450毫升/分钟至 1300毫升/分钟。 25.如申请专利范围第20项所述之洁净方法,其中上 述之转动清洗晶圆,系以一清洗时间为约5秒至5分 钟。 26.如申请专利范围第25项所述之洁净方法,其中上 述之转动清洗晶圆,系以一清洗时间为约10秒至40 秒。 图式简单说明: 第1图系绘示依照本发明一较佳实施例的一种后电 化学电镀洁净装置之结构示意图。 第2图系绘示依照本发明另一较佳实施例的一种后 电化学电镀洁净装置之结构示意图。 第3图系绘示依照本发明之后电化学电镀洁净晶圆 方法之流程图。 |
