| 主权项 |
1.一种平衡校正机之传动结构改良,其设置于基座 上,该传动结构至少包含:动力元件、感测元件与 承架;该动力元件配接有一主动旋件;而感测元件 伸设有一感测旋件,其特征在于:承架枢设有承接 部,以及致动承接部之承接旋件,而承接旋件由主 动旋件衔接传动,并以承接旋件再旋动感测旋件。 2.如申请专利范围第1项所述之平衡校正机之传动 结构改良,其中,承接旋件可增设有衔接主动旋件 与感测旋件之第一转轮者。 3.如申请专利范围第1项所述之平衡校正机之传动 结构改良,其中,承接旋件可增设有衔接主动旋件 之第一转轮,且承接旋件可另置增设有衔接感测旋 件之第二转轮者。 4.如申请专利范围第3项所述之平衡校正机之传动 结构改良,其中,第一转轮可增设有衔接主动旋件 之第一绕接元件。 5.如申请专利范围第4项所述之平衡校正机之传动 结构改良,其中,第一转轮与主动旋件可增设有齿 状周缘,藉此齿状周缘衔接应用为齿状时规皮带之 第一绕接元件。 6.如申请专利范围第3项所述之平衡校正机之传动 结构改良,其中,第二转轮可增设有一卫接感测旋 件之第二绕接元件。 7.如申请专利范围第6项所述之平衡校正机之传动 结构改良,其中,第二转轮与感测旋件可增设有齿 状周缘,藉此齿状周缘衔接应用为齿状时规皮带之 第二绕接元件。 8.如申请专利范围第1项所述之平衡校正机之传动 结构改良,其中,承接旋件可增设有第一转轮与第 二转轮,该第一转轮设有衔接主动旋件之第一绕接 元件,而第二转轮设有衔接感测旋件之第二绕接元 件者。 图式简单说明: 第一图 系为习知之立体图。 第二图 系为本创作之第一实施立体图。 第三图 系为本创作之第一实施组合侧视图。 第四图 系为本创作之第二实施图。 第五图 系为本创作之第三实施图。 第六图 系为本创作之第四实施立体图。 |
