发明名称 相位差板、及新颖之聚合物、及光学薄膜及画像显示装置
摘要 本发明之相位差板系由使显示双折射性的链状聚合物定向的单层薄膜所成,聚合物具有下述一般式(V)所示结构作为重复单元。一般式(V)中,R3为氢原子或碳数1~8的烷基,R4及R8为各自独立的氢原子、碳数1~4的直链状或支链状的烷基、碳数1~4的直链状或支链状的烷氧基、碳数1~4的直链状或支链状的硫烷氧基、卤素、硝基、胺基、羟基或硫醇基(但是R4及R8不可同时为氢原子),R5、R6、及R7为各独立的氢原子或取代基。上述之相位差板可更薄层化,对于可见光区域约整体的波长λ的光线,显示相位差为约λ/2或约λ/4之波长分散性者。
申请公布号 TWI277785 申请公布日期 2007.04.01
申请号 TW094120304 申请日期 2005.06.17
申请人 日东电工股份有限公司 发明人 大森裕;本亨枝;中野秀作;小西贵久;梅本清司
分类号 G02B5/30(2006.01) 主分类号 G02B5/30(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种相位差板,其特征为由使显示双折射性的链 状聚合物定向之单层薄膜所成,该聚合物具有下述 一般式(I)所示之基作为侧链(a),至少于波长450~650nm 之面内相位差,为愈短波长侧愈小且愈长波长侧愈 大, (一般式(I)中,2个氧原子各自链结于构成主链的原 子,R1、R2为各自独立的氢原子、碳数1~8的烷基、 或芳香族基,但是R1及R2至少任一者为芳香族基,R1 或/及R2之芳香族基系其平面结构配置于与连接上 述2个氧原子的假想线约成垂直之方向)。 2.一种相位差板,其特征为由使显示双折射性的链 状聚合物定向之单层薄膜所成,该聚合物具有下述 一般式(II)或一般式(III)所示之基中至少任一者作 为侧链(a),至少于波长450~650nm之面内相位差,为愈 短波长侧愈小且愈长波长侧愈大, (一般式(II)中,2个氧原子各自链结于构成主链的原 子,R3为氢原子或碳数1~8的烷基,R4及R8为各自独立 的氢原子、碳数1~4的直链状或支链状的烷基、碳 数1~4的直链状或支链状的烷氧基、碳数1~4的直链 状或支链状的硫烷氧基、卤素、硝基、胺基、羟 基或硫醇基(但是R4及R8不可同时为氢原子),R5、R6 、及R7为各独立的氢原子或取代基), (一般式(III)中,2个氧原子各自链结于构成主链的 原子,R3为氢原子、碳数1~8的烷基,A为可具有取代 基之基、可具有取代基之基、或可具有取代 基之菲基,构成基、基、或菲基之碳原子中之 1个以上的碳原子可被氮原子取代)。 3.如申请专利范围第1项或第2项之相位差板,其中 该聚合物具有:以主链的构成原子上键结侧链(a)的 结构作为一个构成单元,而该结构单元经相邻配列 的部份。 4.如申请专利范围第1项至第3项之相位差板,其中 所含有的该侧链(a)为侧链总量的1~50莫耳%。 5.如申请专利范围第1项至第4项之相位差板,其中 聚合物除了侧链(a)以外,尚具有羟基作为侧链(b)。 6.如申请专利范围第5项之相位差板,其中该聚合物 除了侧链(a)及(b)以外,尚具有下述一般式(IV)所示 之基作为侧链(c), (一般式(IV)中,R9为氢原子、或直链状、支链状或 环状的烷基,此烷基的碳原子可被未相邻连接之氧 原子取代)。 7.如申请专利范围第6项之相位差板,其所含有的该 侧链(a)为侧链总量的1~50莫耳%,侧链(b)为侧链总量 的5~95莫耳%,侧链(c)为侧链总量的1~90莫耳%。 8.一种相位差板,其特征为由使显示双折射性的链 状聚合物定向的单层薄膜所成,该聚合物具有下述 一般式(V)或一般式(VI)所示结构中之任一作为重复 单元(A),至少于波长450~650nm之面内相位差,为愈短 波长侧愈小且愈长波长侧愈大, (一般式(V)中,R3为氢原子或碳数1~8的烷基,R4及R8为 各自独立的氢原子、碳数1~4的直链状或支链状的 烷基、碳数1~4的直链状或支链状的烷氧基、碳数1 ~4的直链状或支链状的硫烷氧基、卤素、硝基、 胺基、羟基或硫醇基(但是R4及R8不可同时为氢原 子),R5、R6、及R7为各独立的氢原子或取代基), (一般式(VI)中,R3为氢原子、碳数1~8的烷基,A为可具 有取代基之基、可具有取代基之基、或可具 有取代基之菲基,构成基、基、或菲基之碳原 子中之1个以上的碳原子可被氮原子取代)。 9.如申请专利范围第8项之相位差板,其中该聚合物 之重复单元(A)系将聚乙烯醇的羟基以芳香族醛进 行缩醛化所得到者。 10.如申请专利范围第8项或第9项之相位差板,其中 该聚合物除了重复单元(A)之外,尚具有下述一般式 (VII)所示之重复单元(B), (重复单元(A)及(B)的配列可为嵌段状、无规状之任 一种)。 11.如申请专利范围第10项之相位差板,其中该聚合 物除了重复单元(A)及(B)以外,尚具有下述一般式( VIII)所示之重复单元(C), (一般式(VIII)中,R9为氢原子、或碳数1~12的直链状 、支链状或环状的烷基,烷基的碳原子可被未相邻 连接的氧原子取代,重复单元(A)~(C)的配列可为嵌 段状、无规状之任一种)。 12.一种相位差板,其特征为由使显示双折射性的链 状聚合物定向之单层薄膜所成,该聚合物具有下述 一般式(IX)的结构,至少于波长450~650nm之面内相位 差,为愈短波长侧愈小且愈长波长侧愈大, (一般式(IX)中,1为5~30莫耳%,m为20~80莫耳%,n为1~70莫 耳%)。 13.一种相位差板,其特征为由使显示双折射性的链 状聚合物定向之单层薄膜所成,该聚合物具有下述 一般式(X)的结构,至少于波长450~650nm之面内相位差 ,为愈短波长侧愈小且愈长波长侧愈大, (一般式(X)中,I为5~30莫耳%,m为20~80莫耳%,n为1~70莫耳 %)。 14.一种下述一般式(XII)所示之聚合物, (一般式(XII)中,1为5~30莫耳%,m为20~60莫耳%,n为20~60莫 耳%,o为1~55莫耳%)。 15.一种光学薄膜,其特征为层合申请专利范围第1~ 13项中任一项之相位差板者。 16.一种画像显示装置,其特征为具有申请专利范围 第1~13项中任一项之相位差板或申请专利范围第16 项之光学薄膜者。 图式简单说明:
地址 日本