发明名称 | 非挥发性记忆体及其制造方法 | ||
摘要 | 一种非挥发性记忆体,由基底、多数个隔离层、多数个主动层、多数个浮置闸极、多数个控制闸极与多数个掺杂区所构成。主动层设置于基底中,位于隔离层之间,主动层之顶面高于隔离层之顶面,且主动层与隔离层互相平行排列,往第一方向延伸。控制闸极设置于基底上,这些控制闸极平行排列,且往第二方向延伸,第二方向与第一方向交错。浮置闸极分别设置于各主动层与控制闸极之间。掺杂区设置于控制闸极之间的主动层中。 | ||
申请公布号 | TW200713520 | 申请公布日期 | 2007.04.01 |
申请号 | TW094133689 | 申请日期 | 2005.09.28 |
申请人 | 力晶半导体股份有限公司 | 发明人 | 杨立民;王炳尧 |
分类号 | H01L21/8247(2006.01);H01L29/788(2006.01) | 主分类号 | H01L21/8247(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号 |