发明名称 非挥发性记忆体及其制造方法
摘要 一种非挥发性记忆体,由基底、多数个隔离层、多数个主动层、多数个浮置闸极、多数个控制闸极与多数个掺杂区所构成。主动层设置于基底中,位于隔离层之间,主动层之顶面高于隔离层之顶面,且主动层与隔离层互相平行排列,往第一方向延伸。控制闸极设置于基底上,这些控制闸极平行排列,且往第二方向延伸,第二方向与第一方向交错。浮置闸极分别设置于各主动层与控制闸极之间。掺杂区设置于控制闸极之间的主动层中。
申请公布号 TW200713520 申请公布日期 2007.04.01
申请号 TW094133689 申请日期 2005.09.28
申请人 力晶半导体股份有限公司 发明人 杨立民;王炳尧
分类号 H01L21/8247(2006.01);H01L29/788(2006.01) 主分类号 H01L21/8247(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号
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