避免浸润式微影的水纹缺陷

摘要

一种用于浸润式微影(Immersion Lithography)之光阻材料，此光阻材料包含聚合物、光酸产生剂以及抑制剂。聚合物与酸反应后，能溶解于硷性溶液中。光酸产生剂吸收辐射后，能分解形成酸。抑制剂能中和酸且流动性低。因此，此光阻材料能避免浸润式微影中的水纹缺陷。