发明名称 |
微影装置及元件制造方法 |
摘要 |
本发明系关于一种微影装置,其包含:一用于固定一基板之基板台;一用于将一图案化光束投影至该基板之一目标部分上的投影系统;及一经配置以量测该基板台在至少三个自由度中的位置之位移量测系统。该位移量测系统包含一经配置以量测该基板台在一第一方向中之位置的第一X感应器,及经配置以量测该基板台在一第二方向中之位置的一第一及一第二Y感应器。该位移量测系统进一步包含一第二X感应器,其中该第一及该第二X感应器以及该第一及该第二Y感应器为编码器型感应器,其经配置以量测该等感应器中之每一者相对于至少一栅板(grid plate)的位置。该位移量测系统经配置以视该基板台之位置而定,选择性地使用该第一及该第二x感应器以及该第一及该第二y感应器中之三者,来判定该基板台在三个自由度中的位置。 |
申请公布号 |
TW200712794 |
申请公布日期 |
2007.04.01 |
申请号 |
TW095132036 |
申请日期 |
2006.08.30 |
申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
艾瑞克 罗勒夫 洛卜史塔;英格伯特斯 安东尼斯 法兰西斯寇斯 凡 德 派希;DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |