| 主权项 |
1.一种发光装置,其特征为:在基体上具备有 多数第一电极; 具有对应于上述第一电极之形成位置之多数开口 部的隔墙; 被配置在各个上述开口部上之有机功能层; 覆盖上述隔墙及上述有机功能层之第二电极: 覆盖上述第二电极之有机缓冲层; 延伸存在而被配置成覆盖上述有机缓冲层之图案 及其周围之气体阻挡层;和 被配置成覆盖上述有机缓冲层之外围区域之外壳 补强层。 2.如申请专利范围第1项所记载之发光装置,其中, 上述外壳补强层是被配置成覆盖上述有机缓冲层 之图案的端部周边。 3.如申请专利范围第1项或第2项所记载之发光装置 ,其中,上述外壳补强层是延伸存在而被配置成覆 盖上述气体阻挡层之图案之外围区域及其周围。 4.如申请专利范围第1项或第2项所记载之发光装置 ,其中,具有覆盖上述第二电极之电极保护层。 5.如申请专利范围第1项或第2项所记载之发光装置 ,其中,具有覆盖上述气体阻挡层之保护层。 6.如申请专利范围第1项或第2项所记载之发光装置 ,其中,上述有机缓冲层之端部之接触角度是以45 以下所形成。 7.如申请专利范围第1项或第2项所记载之发光装置 ,其中,上述外壳补强层是由树脂所构成。 8.如申请专利范围第7项所记载之发光装置,其中, 上述外壳补强层含有微粒子。 9.如申请专利范围第7项所记载之发光装置,其中, 上述外壳补强层和上述有机缓冲层是由相同树脂 所构成。 10.如申请专利范围第5项所记载之发光装置,其中, 上述保护层是被配置成使上述外壳补强层之外围 区域予以露出。 11.如申请专利范围第5项所记载之发光装置,其中, 上述保护层是由覆盖上述气体阻挡层之黏着层和 表面保护基板所构成。 12.一种发光装置之制造方法,其特征为:具有在基 体上 形成多数第一电极之工程; 形成具有对应于上述第一电极之形成位置之多数 开口部的隔墙之工程; 形成被配置在各个上述开口部的有机功能层之工 程; 形成覆盖上述隔墙及上述有机功能层的第二电极 之工程; 形成覆盖上述第二电极,并形成有平坦顶面的有机 缓冲层之工程; 形成覆盖上述有机缓冲层的气体阻挡层之工程; 形成覆盖上述气体阻挡层之至少外围区域的外壳 补强层之工程。 13.如申请专利范围第12项所记载之发光装置之制 造方法,其中,形成上述外壳补强层之工程,是包含 将含有微粒子之有机材料涂布于上述气体阻挡层 之至少外围区域的工程。 14.如申请专利范围第12项或第13项所记载之发光装 置之制造方法,其中,具有将覆盖上述体气阻挡层 及上述外壳补强层之一部份之保护层,形成使上述 外壳补强层之外围区域予以露出之工程。 15.如申请专利范围第14项所记载之发光装置之制 造方法,其中,形成上述保护层之工程是包含有 形成覆盖上述气体阻挡层及上述外壳补强层之一 部分的黏着层之工程; 在上述黏着层上配置表面保护基板之工程; 沿着上述黏着层之大略外围切断上述表面保护基 板之工程。 16.一种电子机器,其特征为:具备有申请专利范围 第1项至第11项中之任一项所记载之发光装置。 图式简单说明: 第1图是表示本发明之第一实施形态所涉及之EL显 示装置1之配线构造图。 第2图是表示EL显示装置1之构成的模式图。 第3图是沿着第2图之A-B线之截面图。 第4图是沿着第2图之C-D线之截面图。 第5图是表示有机缓冲层210之端部(外围区域)之放 大图。 第6图是以工程顺序表示EL显示装置1之制造方法之 图式。 第7图是表示接续于第6图之工程的图示。 第8图是表示保护层204之变形例之截面图。 第9图是用以说明保护层204之变形例的图示。 第10图是表示本发明之第二实施形态所涉及之EL显 示装置2之截面构造之模式截面图。 第11图是表示本发明之实施形态所涉及之电子机 器的图示。 |
