| 主权项 |
1.一种发光模组,包括: 一光源组,适于提供一光线;以及 一导光件,配置于该光源组上方,该导光件具有相 对之一顶面与一光入射面以及相对之一第一反射 面与一光出射面,分别连接于该顶面与该光入射面 之间,其中该顶面具有一第一凹陷,且该第一凹陷 之表面系一第二反射面,其适于反射该光线,而被 该第二反射面反射的该光线之一部份系经由该第 一反射面的反射而自该光出射面出射,另一部份的 光线系直接自该光出射面出射。 2.如申请专利范围第1项所述之发光模组,其中该光 源组包括: 一承载器; 至少一发光二极体晶片,配置于该承载器上,该发 光二极体晶片适于提供该光线;以及 一封装胶体,包覆该发光二极体晶片。 3.如申请专利范围第1项所述之发光模组,其中该第 一凹陷系一锥形凹陷。 4.如申请专利范围第1项所述之发光模组,其中该导 光件更具有一反射膜,位于该第一凹陷之表面上。 5.如申请专利范围第1项所述之发光模组,其中该第 一反射面之两端系与该光出射面之两端相连。 6.如申请专利范围第1项所述之发光模组,其中该第 一凹陷使该光源组之光线自第二反射面反射后沿 着大致上平行于该光入射面的方向传递自该光出 射面出射或传递至该第一反射面,自该第一反射面 反射之光线系沿着垂直于该导光件之光出射面的 方向前进,最后垂直穿透该光出射面射出。 7.如申请专利范围第1项所述之发光模组,其中该导 光件更具有一反射膜,位于该第一反射面上。 8.如申请专利范围第1项所述之发光模组,其中该导 光件更具有多个微结构,位于该第一反射面及/或 该光出射面上。 9.如申请专利范围第1项所述之发光模组,其中该导 光件之该光入射面具有一第二凹陷,与该第一凹陷 相对,而该光源组系嵌入该第二凹陷中。 10.如申请专利范围第1项所述之发光模组,其中该 第二反射面及第一反射面可为抛物面。 11.一种面光源装置,包括: 一导光板; 多个发光模组,配置于该导光板旁,各该发光模组 包括: 一光源组,适于提供一光线;以及 一导光件,配置于该光源组上方,该导光件具有相 对之一顶面与一光入射面以及相对之一第一反射 面与一光出射面,分别连接于该顶面与该光入射面 之间,其中该顶面具有一第一凹陷,且该第一凹陷 之表面系一第二反射面,其适于反射该光线,而被 该第二反射面反射的该光线之一部份系经由该第 一反射面的反射而自该光出射面出射,另一部份的 光线系直接自该光出射面出射,且自该光出射面出 射的光线系入射该导光板。 12.如申请专利范围第11项所述之面光源装置,其中 该些发光模组系配置于该导光板相对之两侧边。 13.如申请专利范围第11项所述之面光源装置,其中 各该光源组包括: 一承载器; 至少一发光二极体晶片,配置于该承载器上,该发 光二极体晶片适于提供该光线;以及 一封装胶体,包覆该发光二极体晶片。 14.如申请专利范围第11项所述之面光源装置,其中 该些导光件与该导光板系一体成型。 15.如申请专利范围第11项所述之面光源装置,其中 各该第一凹陷系一锥形凹陷。 16.如申请专利范围第11项所述之面光源装置,其中 各该导光件之该第一反射面之两端系与该光出射 面之两端相连。 17.如申请专利范围第11项所述之面光源装置,其中 各该导光件更具有多个微结构,位于该第一反射面 及/或该光出射面上。 18.如申请专利范围第11项所述之面光源装置,其中 各该导光件之该光入射面具有一第二凹陷,与该第 一凹陷相对,而各该光源组系嵌入对应之该第二凹 陷中。 图式简单说明: 图1A系习知一种发光二极体之发光模组的局部立 体图。 图1B系习知发光模组的剖面示意图。 图2系本发明第一实施例之发光模组的立体图。 图3A系图2之发光模组的上视图。 图3B系图2之发光模组的结构剖面图。 图4系本发明第二实施例之发光模组的结构剖面图 。 图5系本发明单边式面光源装置的上视图。 图6系本发明双边式面光源装置的上视图。 |
