发明名称 |
新型聚酰亚胺薄膜及其利用 |
摘要 |
提供经在聚酰亚胺薄膜上层合金属的工序、和对金属蚀刻形成线路的工序时的尺寸变化少、可在整个宽度使尺寸变化率稳定的聚酰亚胺薄膜为课题。是连续地制造的聚酰亚胺薄膜,通过对薄膜的整个宽度测定100℃~200℃的分子取向轴方向的线膨胀系数a和与分子取向轴垂直的方向的线膨胀系数b时,a与b满足特定关系的聚酰亚胺薄膜,或者,对薄膜的整个宽度测定分子取向轴方向的抗撕裂传播值c和与分子取向轴垂直的方向的抗撕裂传播值d时,c与d满足特定关系的聚酰亚胺薄膜可以解决上述课题。 |
申请公布号 |
CN1933959A |
申请公布日期 |
2007.03.21 |
申请号 |
CN200580008363.9 |
申请日期 |
2005.03.11 |
申请人 |
株式会社钟化 |
发明人 |
藤原宽;小野和宏;松腋崇晃 |
分类号 |
B29C55/06(2006.01);B29C41/12(2006.01);B32B15/08(2006.01);B32B27/34(2006.01);C08J5/18(2006.01);H05K1/03(2006.01);C08L79/08(2006.01) |
主分类号 |
B29C55/06(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
陈昕 |
主权项 |
1.聚酰亚胺薄膜,是连续地制造的聚酰亚胺薄膜,其特征在于,在其整个宽度,测定100℃~200℃的分子取向轴方向的线膨胀系数a和与分子取向轴垂直的方向的线膨胀系数b时,下述式(1)表示的线膨胀系数比A在1.01~3.00的范围内A=1+{(b-a)/(b+a)}×2 ……(1)。 |
地址 |
日本大阪 |