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发明名称
Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition, and pattern-forming method using the photosensitive composition
摘要
申请公布号
EP1635218(A3)
申请公布日期
2007.03.21
申请号
EP20050019883
申请日期
2005.09.13
申请人
FUJIFILM CORPORATION
发明人
WADA, KENJI
分类号
G03F7/004;C07C311/48;G03F7/038;G03F7/039
主分类号
G03F7/004
代理机构
代理人
主权项
地址
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