发明名称 具有新型晶体结构的金属复合氧化物及其作为离子型导体的用途
摘要 本发明披露了具有新型晶体结构的金属复合氧化物,其以条件(a)~(c)为特征:(a)空间群为Fd-3m(no.227);(b)晶胞参数为17.0±1.0;以及(c)在晶胞中由具有0<占有率≤1位置占有率的阳离子占有的晶格位置为{8b(3/8,3/8,3/8)、48f(x,1/8,1/8),其中0.37≤x≤0.43;32e(x,x,x),其中0.20≤x≤0.26;16d(1/2,1/2,1/2)和16c(0,0,0)}。晶胞中的晶格坐标基于空间群No.227、原点选择2(p.701 of“International tablesfor crystallography”,vol.A,5<SUP>th</SUP> ed.Kluwer Academic Publishers,2002)。本发明还披露了包括该金属复合氧化物的离子型导体和包括该离子型导体的电化学装置。该金属复合氧化物具有由晶胞内的金属离子位置和金属离子缺陷的排序导致的结晶学特异性而形成易于离子移动的离子通道。因此,根据本发明的金属复合氧化物在需要离子型导体或离子电导性的电化学装置中是有用的。
申请公布号 CN1934033A 申请公布日期 2007.03.21
申请号 CN200580008376.6 申请日期 2005.04.21
申请人 LG化学株式会社 发明人 洪承泰;卢允镐;李应齐;朴美惠
分类号 C01F1/00(2006.01);C01G41/00(2006.01) 主分类号 C01F1/00(2006.01)
代理机构 北京金信立方知识产权代理有限公司 代理人 朱梅;徐志明
主权项 1、一种具有新的晶体结构的金属复合氧化物,其以条件(a)~(c) 为特征: (a)空间群为Fd-3m(no.227); (b)晶胞参数为17.0±1.0_;以及 (c)在由具有一定位置占有率的阳离子占有的晶胞中的晶格位置如 表1所示(晶胞中的晶格坐标基于空间群No.227、原点选择2(p.701of “Internationaltablesforcrystallography”,vol.A,5<sup>th</sup>ed.KluwerAcademic Publishers,2002))。 [表1] <tables id="table1" num="001"><table width="652"><tgroup cols="2"><colspec colname="c001" colwidth="70%" /><colspec colname="c002" colwidth="29%" /><thead><row><entry morerows="1"> 阳离子的坐标(X,Y,Z) </entry><entry morerows="1"> 占有率(O) </entry></row></thead><tbody><row><entry morerows="1"> 8b(3/8,3/8,3/8) </entry><entry morerows="1"> 0<O≤1 </entry></row><row><entry morerows="1"> 48f(x,1/8,1/8),0.37≤x≤0.43 </entry><entry morerows="1"> 0<O≤1 </entry></row><row><entry morerows="1"> 32e(x,x,x),0.20≤x≤0.26 </entry><entry morerows="1"> 0<O≤1 </entry></row><row><entry morerows="1"> 16d(1/2,1/2,1/2) </entry><entry morerows="1"> 0<O≤1 </entry></row><row><entry morerows="1"> 16c(0,0,0) </entry><entry morerows="1"> 0<O≤1 </entry></row></tbody></tgroup></table></tables>
地址 韩国首尔