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经营范围
发明名称
高移除速率之下游腔室
摘要
一气腔包含形成一腔室之上腔体和下腔体、供一晶圆用之一加热夹件、一远端气源、及一排气单元。气体透过一注入件内之通道被注入进该腔室内。各通道具有以一足够角度相互弯曲以实质消除进入该通道之进入光线不反射就射出该通道之部分。该等通道在紧邻该夹件之端点具有漏斗状喷嘴。该注入件也具有介于该注入件与该腔室和气源之配合表面之间之热膨胀缓冲狭槽和小间隙。该注入件温度由冷却通道里之一冷却液体和该注入件接收座里之电气加热器控制。该上腔体为漏斗状且在该上腔体紧邻该夹件之一端向下弯曲。
申请公布号
TW200710985
申请公布日期
2007.03.16
申请号
TW095110523
申请日期
2006.03.27
申请人
兰研究公司
发明人
王英洋;温尼札克;古柏贝格;艾德贝格;薛比
分类号
H01L21/306(2006.01);C03C25/68(2006.01);H01L21/02(2006.01)
主分类号
H01L21/306(2006.01)
代理机构
代理人
恽轶群;陈文郎
主权项
地址
美国
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