发明名称 |
在半导体基板内形成埋式隔离区之方法及具有埋式隔离区之半导体装置 |
摘要 |
本发明系关于半导体结构及形成半导体结构的方法。此半导体结构包含奈米结构(nano-structures)或使用奈米结构制成。形成半导体结构的方法包含使用一奈米罩(nano-mask)产生奈米结构,并使用产生的奈米结构执行额外的半导体制程步骤。 |
申请公布号 |
TW200711004 |
申请公布日期 |
2007.03.16 |
申请号 |
TW095101576 |
申请日期 |
2006.01.16 |
申请人 |
万国商业机器公司 |
发明人 |
池田展男;马克C. 黑奇;史蒂芬J. 福尔摩斯;大卫V. 哈克;查尔斯W. 柯博尔三世 |
分类号 |
H01L21/336(2006.01);H01L21/02(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/336(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
蔡玉玲 |
主权项 |
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地址 |
美国 |