发明名称 光阻用化合物及光阻组成物
摘要 本发明系有关含有一种以上(a)使碳数5~45之芳香族酮或芳香族醛、及碳数6~15之含1~3个苯酚性羟基之化合物藉由缩合反应所制造的聚苯酚化合物,藉由照射选自可视光线、紫外线、准分子雷射、极端紫外线(EUV)、电子线、X线、及离子束之任一放射线,直接或间接引起交联反应导入交联反应性基之试剂反应所制造、(b)分子量为300~5000、且(c)使在分子中至少具有1个该交联反应性基之光阻化合物(A)的光阻组成物及其中可使用的化合物,由于该光阻组成物为高感度,故可制作高解像度之光阻图案,可以高生产性制作积体度高的半导体元件。
申请公布号 TW200710567 申请公布日期 2007.03.16
申请号 TW095119850 申请日期 2006.06.05
申请人 三菱瓦斯化学股份有限公司 发明人 越后雅敏;小黑大
分类号 G03F7/004(2006.01);G03F7/039(2006.01);G03F7/027(2006.01);C07C39/17(2006.01);C08G61/00(2006.01) 主分类号 G03F7/004(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本