发明名称 用于感应耦合电浆反应器且具有分离之射频线圈的两件式圆顶结构
摘要 一基材处理系统具有:一壳体,其界定一制程腔室;一气体输送系统;一高密度电浆产生系统;一基材固持件;以及一控制器。该壳体包括一侧壁与一设置在该侧壁上方的圆顶。该圆顶具有复数个实体上分离且非毗邻之部件。该气体输送系统经由数个侧喷嘴导入一气体至该制程腔室,其中该些侧喷嘴位于该两实体分离且非毗邻部件之间。该高密度电浆产生系统操作地耦合于该制程腔室。该基材固持件位于该制程腔室内且在基材处理期间支撑一基材。该控制器系控制该气体输送系统与该高密度电浆产生系统。
申请公布号 TW200710270 申请公布日期 2007.03.16
申请号 TW095128919 申请日期 2006.08.07
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 路四清;梁奇伟;赖肯奋;陈罗勃特T CHEN, ROBERT T.;布洛金杰森T BLOKING, JASON T.;邱艾琳;金史帝芬H KIM, STEVEN H.;李永S LEE, YOUNG S.;叶怡利Y YIEH, ELLIE Y.
分类号 C23C16/513(2006.01);C23C16/54(2006.01) 主分类号 C23C16/513(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财;李世章
主权项
地址 美国
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