发明名称 EQUIPEMENT ET PROCEDE DE SURVEILLANCE D'UN DISPOSITIF LITHOGRAPHIQUE A IMMERSION.
摘要 L'invention propose un équipement de surveillance d'un dispositif lithographique à immersion équipé d'une source lumineuse principale et d'une optique de projection pour imprimer des images sur une plaquette. Le milieu de propagation allant de l'optique de projection à la plaquette est constitué d'un liquide (3). L'équipement comporte :- une enceinte (51) propre à recevoir une partie au moins dudit liquide (3),- un réseau de diffraction (50) immergé dans l'enceinte,- une source lumineuse secondaire (271) propre à envoyer un faisceau incident secondaire (202) vers le réseau de manière à obtenir un faisceau diffracté,- des organes de mesure d'angle (57) capables de mesurer au moins un angle de diffraction correspondant à un maximum d'intensité d'un ordre de diffraction du faisceau diffracté par le réseau (500), et- des moyens de calcul (505) aptes à calculer une estimation d'une grandeur relative à l'indice de réfraction du liquide.
申请公布号 FR2890742(A1) 申请公布日期 2007.03.16
申请号 FR20050009269 申请日期 2005.09.12
申请人 SOCIETE DE PRODUCTION ET DE RECHERCHES APPLIQUEESSOPRA SOCIETE ANONYME 发明人 PIEL JEAN PHILIPPE;STEHLE JEAN LOUIS
分类号 G01N21/41;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/66 主分类号 G01N21/41
代理机构 代理人
主权项
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