发明名称 |
EQUIPEMENT ET PROCEDE DE SURVEILLANCE D'UN DISPOSITIF LITHOGRAPHIQUE A IMMERSION. |
摘要 |
L'invention propose un équipement de surveillance d'un dispositif lithographique à immersion équipé d'une source lumineuse principale et d'une optique de projection pour imprimer des images sur une plaquette. Le milieu de propagation allant de l'optique de projection à la plaquette est constitué d'un liquide (3). L'équipement comporte :- une enceinte (51) propre à recevoir une partie au moins dudit liquide (3),- un réseau de diffraction (50) immergé dans l'enceinte,- une source lumineuse secondaire (271) propre à envoyer un faisceau incident secondaire (202) vers le réseau de manière à obtenir un faisceau diffracté,- des organes de mesure d'angle (57) capables de mesurer au moins un angle de diffraction correspondant à un maximum d'intensité d'un ordre de diffraction du faisceau diffracté par le réseau (500), et- des moyens de calcul (505) aptes à calculer une estimation d'une grandeur relative à l'indice de réfraction du liquide.
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申请公布号 |
FR2890742(A1) |
申请公布日期 |
2007.03.16 |
申请号 |
FR20050009269 |
申请日期 |
2005.09.12 |
申请人 |
SOCIETE DE PRODUCTION ET DE RECHERCHES APPLIQUEESSOPRA SOCIETE ANONYME |
发明人 |
PIEL JEAN PHILIPPE;STEHLE JEAN LOUIS |
分类号 |
G01N21/41;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/66 |
主分类号 |
G01N21/41 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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