首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
Pulverizing apparatus
摘要
申请公布号
US2100020(A)
申请公布日期
1937.11.23
申请号
US19340715399
申请日期
1934.03.14
申请人
RILEY STOKER CORPORATION
发明人
ANDREWS L. V.
分类号
B02C13/26
主分类号
B02C13/26
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
液体混合供应方法
醯胺化合物及血小板生成素受体活化剂
5-胺基-4-羟基-2-异丙基-7-[4-甲氧基-3-(3-甲氧基丙氧基)基]-8-甲基-壬醯胺类5-AMINO-4-HYDROXY-2-ISOPROPYL-7-[4-METHOXY-3-(3-METHOXYPROPOXY) BENZYL]-8-METHYL-NONANAMIDES
新颖之啶酮衍生物及其作为MGLUR2-受体的正变构调节剂之用途NOVEL PYRIDINONE DERIVATIVES AND THEIR USE AS POSITIVE ALLOSTERIC MODULATORS OF MGLUR2-RECEPTORS
转接器装置及其制造方法以及电路装置的电性检查装置
板对板连接器
通用串列滙流排集线器、通用串列滙流排对应设备、及通信系统
太阳电池封闭材料
引线构造
非挥发性记忆体及其制程与操作方法
半导体装置及其制造方法
半导体元件及其制造方法、记忆体元件及其操作方法与记忆胞的操作方法
使用替莫唑胺(TEMOZOLOMIDE)调配物以鞘内注射治疗癌症之方法
治疗性脯胺酸衍生物之用途
深碳掺杂区及隆起的施体掺杂源极和汲极为特点之应变NMOS电晶体STRAINED NMOS TRANSISTOR FEATURING DEEP CARBON DOPED REGIONS AND RAISED DONOR DOPED SOURCE AND DRAIN
双极电晶体具有自行对准逆增式非本质基极植入分布和自行对准矽化物
矽覆绝缘装置及其制作方法
集合基板、半导体元件搭载构件、半导体装置、摄像装置、发光二极体构成构件及发光二极体
可挠性印刷电路基板及其制造方法
窄板(low profile)显示卡之记忆体滙流排布线结构与布线方法
