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经营范围
发明名称
Baffle of etching apparatus used to manufacture a semiconductor device
摘要
申请公布号
KR100689810(B1)
申请公布日期
2007.03.08
申请号
KR20010019330
申请日期
2001.04.11
申请人
发明人
分类号
H01L21/306
主分类号
H01L21/306
代理机构
代理人
主权项
地址
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