发明名称 |
青铜器薄壁镂空长流程铸造工艺 |
摘要 |
本发明公开了一种青铜器薄壁镂空长流程铸造工艺,主要在壳模制造和青铜合金配方上进行了改进,在壳模内层涂料里加入稀土元素镥,在青铜合金里加入了稀土元素钇。该工艺提高了壳模内壁的光滑度和保温性能,降低了青铜合金熔液的粘稠度,在浇注过程中容易充型,从而提高青铜合金熔液的充腔速度,能够铸造出花纹细腻、没有冷隔和气孔的薄壁镂空长流程青铜器工艺品。 |
申请公布号 |
CN1923404A |
申请公布日期 |
2007.03.07 |
申请号 |
CN200610159739.2 |
申请日期 |
2006.09.23 |
申请人 |
王国利 |
发明人 |
王国利 |
分类号 |
B22C3/00(2006.01);C22C9/02(2006.01) |
主分类号 |
B22C3/00(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
1、一种青铜器薄壁镂空长流程铸造工艺,包括制备模型、制备壳模、去蜡、焙烧、熔炼、浇注、取出铸件工艺步骤,其特征在于:制备壳模的涂料包括内层涂料、中层涂料和外层涂料,内层涂料含有稀土镥元素,这种涂料由如下重量份配比的成分构成:硅溶胶60-80、刚玉粉20-30、氧化镥0.1-0.5;中层涂料由如下重量份配比的成分构成:硅溶胶60-80、炭化硅20-30;外层涂料由如下重量份配比的成分构成:硅溶胶60-80、石英20-30。 |
地址 |
024000内蒙古自治区赤峰市红山区清河路北小街 |