PRECURSEURS ORGANOMETALLIQUES POUR LE DEPOT D'UN FILM DE CARBURE OU DE CARBO-NITRURE DE TANTALE ET PROCEDE DE DEPOT DE TEL FILM

摘要

L'invention concerne des précurseurs de films minces de carbure, carbo-nitrure, et /ou carbo-sylylo-nitrure d'un organométallique de formule M [N(SiR<1> R<2> R<3>)2]2R<4>R<5>R<6> avec M = TaR<1>, R<2>, R<3>, R<4>, R<5>, R<6> = CnH2n+1 avec n=1 à 5L'invention concerne plus particulièrement le Ta(CH3)3(N(TMS)2)2.