| 主权项 |
1.一种用于从物品上剥除残余物的组合物,该组合 物包括: 50 wt%或更多的含有二醇醚的至少一种水溶性有机 溶剂; 小于50 wt%的水; 最多为20 wt%的含氟化合物,条件是如果含氟化合物 为氟化铵时则没有其他的含氟化合物添加到该组 合物中;以及 任选的四级铵化合物。 2.如申请专利范围第1项的组合物,其还包括最多为 20 wt%的腐蚀抑制剂。 3.如申请专利范围第2项的组合物,其中该腐蚀抑制 剂包括选自有机酸、有机酸盐、邻苯二酚、间苯 二酚、苯酚、马来酸酐、邻苯二甲酸酐、连苯三 酚、五倍子酸或其酯、苯并三唑、羧基苯并三唑 、羟胺、果糖、硫代硫酸铵、胺基乙酸、四甲基 胍、亚胺基二乙酸、二甲基乙醯乙醯胺、三羟基 苯、二羟基苯、水杨基羟酸、硫代甘油及其混 合物中的至少一种。 4.如申请专利范围第3项的组合物,其中该腐蚀抑制 剂包括羟胺。 5.如申请专利范围第4项的组合物,其中所述羟胺包 括二乙基羟胺。 6.如申请专利范围第1项的组合物,其中该二醇醚选 自乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚 、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二甘醇单甲醚 、二甘醇单乙醚、二甘醇单丙醚、二甘醇单异丙 醚、二甘醇单丁醚、二甘醇单异丁醚、二甘醇单 基醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、三甘醇 单甲醚、三甘醇二甲醚、聚乙二醇单甲醚、二甘 醇甲基乙基醚、三甘醇乙二醇单甲醚乙酸酯、乙 二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇二甲 醚、丙二醇单丁醚、丙二醇单丙醚、一缩二丙二 醇单甲醚、一缩二丙二醇单丙醚、一缩二丙二醇 单异丙醚、一缩二丙二醇单丁醚、一缩二丙二醇 二异丙醚、二缩三丙二醇单甲醚、1-甲氧基-2-丁 醇、2-甲氧基-1-丁醇、2-甲氧基-2-甲基丁醇、1,1- 二甲氧基乙烷和2-(2-丁氧基乙氧基)乙醇所组成的 族群。 7.如申请专利范围第1项的组合物,其中该水溶性有 机溶剂还包括选自二甲基乙醯胺、N-甲基咯烷 酮、二甲亚、二甲基甲醯胺、N-甲基甲醯胺、 甲醯胺、二甲基-2-呱啶酮、四氢糠醇、链烷醇胺 、丙三醇及其混合物中的一种。 8.如申请专利范围第1项的组合物,其中该含氟化合 物包括通式为R1R2R3R4NF的化合物,其中R1、R2、R3和R4 独立地为氢、醇基、烷氧基、烷基及其混合物。 9.如申请专利范围第8项的组合物,其中该含氟化合 物选自氟化四甲铵、氟化四乙铵、氟化四丁铵、 胆硷氢氟酸盐及其混合物。 10.如申请专利范围第1项的组合物,其中该含氟化 物包括氟硼酸。 11.如申请专利范围第1项的组合物,其中该组合物 包括四级铵化合物。 12.如申请专利范围第11项的组合物,其中该四级铵 化合物选自氢氧化四甲铵、氢氧化四乙铵、氢氧 化四丙铵、氢氧化四丁铵、氢氧化三甲基乙基铵 、氢氧化(2-羟基乙基)三甲基铵、氢氧化(2-羟基乙 基)三乙基铵、氢氧化(2-羟基乙基)三丙基铵、氢 氧化(1-羟基丙基)三甲基铵及其混合物所组成的族 群。 13.一种定义图案的方法,其中包括将光阻剂涂覆到 基材上, 将图案光微影定义到光阻剂上; 将图案转移到基材上; 通过使基材与如申请专利范围第1项所述的一种组 合物接触以从基材上剥除光阻剂或蚀刻残余物或 以上两者。 14.如申请专利范围第13项的方法,其中该光阻剂是 正性光阻剂。 15.如申请专利范围第13项的方法,其中该光阻剂是 负性光阻剂。 16.一种用于从物品上剥除残余物的组合物,该组合 物包括: 50 wt%或更多的水; 小于50 wt%的含有二醇醚的至少一种水溶性有机溶 剂; 最多为20 wt%的含氟化合物,条件是如果含氟化合物 为氟化铵则没有其他的含氟化合物添加到该组合 物中; 任选的四级铵化合物。 17.如申请专利范围第16项的组合物,其还包括最多 为20 wt%的腐蚀抑制剂。 18.如申请专利范围第17项的组合物,其中该腐蚀抑 制剂包括选自有机酸、有机酸盐、邻苯二酚、间 苯二酚、苯酚、马来酸酐、邻苯二甲酸酐、连苯 三酚、五倍子酸或其酯、苯并三唑、羧基苯并三 唑、羟胺、果糖、硫代硫酸铵、胺基乙酸、四甲 基胍、亚胺基二乙酸、二甲基乙醯乙醯胺、三羟 基苯、二羟基苯、水杨基羟酸、硫代甘油及其 混合物中的至少一种。 19.如申请专利范围第18项的组合物,其中该腐蚀抑 制剂包括羟胺。 20.如申请专利范围第19项的组合物,其中所述羟胺 包括二乙基羟胺。 21.如申请专利范围第16项的组合物,其中该二醇醚 选自乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁 醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二甘醇单甲 醚、二甘醇单乙醚、二甘醇单丙醚、二甘醇单异 丙醚、二甘醇单丁醚、二甘醇单异丁醚、二甘醇 单基醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、三甘 醇单甲醚、三甘醇二甲醚、聚乙二醇单甲醚、二 甘醇甲基乙基醚、三甘醇乙二醇单甲醚乙酸酯、 乙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇二 甲醚、丙二醇单丁醚、丙二醇单丙醚、一缩二丙 二醇单甲醚、一缩二丙二醇单丙醚、一缩二丙二 醇单异丙醚、一缩二丙二醇单丁醚、一缩二丙二 醇二异丙醚、二缩三丙二醇单甲醚、1-甲氧基-2- 丁醇、2-甲氧基-1-丁醇、2-甲氧基-2-甲基丁醇、1,1 -二甲氧基乙烷和2-(2-丁氧基乙氧基)乙醇所组成的 族群。 22.如申请专利范围第16项的组合物,其中该水溶性 有机溶剂还包括选自二甲基乙醯胺、N-甲基咯 烷酮、二甲亚、二甲基甲醯胺、N-甲基甲醯胺 、甲醯胺、二甲基-2-呱啶酮、四氢糠醇、链烷醇 胺、丙三醇及其混合物中的一种。 23.如申请专利范围第16项的组合物,其中该含氟化 合物包括通式为R1R2R3R4NF的化合物,其中R1、R2、R3 和R4独立地为氢、醇基、烷氧基、烷基及其混合 物。 24.如申请专利范围第23项的组合物,其中该含氟化 合物选自氟化四甲铵、氟化四乙铵、氟化四丁铵 、胆硷氢氟酸盐及其混合物。 25.如申请专利范围第16项的组合物,其中该含氟化 物包括氟硼酸。 26.如申请专利范围第16项的组合物,其中该组合物 包括四级铵化合物。 27.如申请专利范围第26项的组合物,其中该四级铵 化合物选自氢氧化四甲铵、氢氧化四乙铵、氢氧 化四丙铵、氢氧化四丁铵、氢氧化三甲基乙基铵 、氢氧化(2-羟基乙基)三甲基铵、氢氧化(2-羟基乙 基)三乙基铵、氢氧化(2-羟基乙基)三丙基铵、氢 氧化(1-羟基丙基)三甲基铵及其混合物所组成的族 群。 28.一种定义图案的方法,其中包括将光阻剂涂覆到 基材上, 将图案光微影定义到光阻剂上; 将图案转移到基材上; 通过使基材与如申请专利范围第16项所述的一种 组合物接触以从基材上剥除光阻剂或蚀刻残余物 或以上两者。 29.如申请专利范围第28项的方法,其中该光阻剂是 正性光阻剂。 30.如申请专利范围第28项的方法,其中该光阻剂是 负性光阻剂。 |
