| 主权项 |
1.一种藉由缩放点阵笔划资料产生点阵字型之方 法,其包含有: (a)建立一点阵笔划资料集,其包含有复数笔点阵笔 划资料; (b)自该点阵笔划资料集中提取点阵笔划资料; (c)改变步骤(b)提取之点阵笔划资料的大小;以及 (d)将改变大小后之点阵笔划资料组合成一点阵字 型。 2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该点阵笔 划资料集系用来组成中文字型。 3.如申请专利范围第1项所述之方法,其中步骤(a)系 为建立一包含有复数笔预设大小之点阵笔划资料 之点阵笔划资料集。 4.如申请专利范围第1项所述之方法,其中步骤(a)系 透过向量笔划组字字型资料自动分析以建立之。 5.如申请专利范围第1项所述之方法,其中步骤(a)系 为建立一单色点阵笔划资料集。 6.如申请专利范围第1项所述之方法,其中步骤(c)系 以单色点阵之方式改变步骤(b)提取之点阵笔划资 料之大小。 7.如申请专利范围第1项所述之方法,其中步骤(a)系 为建立一灰阶点阵笔划资料集。 8.如申请专利范围第1项所述之方法,其中步骤(c)系 以灰阶点阵之方式改变步骤(b)提取之点阵笔划资 料之大小。 9.如申请专利范围第8项所述之方法,其中步骤(d)包 含取一像素之最大灰阶値做为该像素之灰阶値。 10.如申请专利范围第1项所述之方法,其中步骤(b) 系依据该点阵字型包含之复数笔点阵笔划资料代 码提取点阵笔划资料。 11.如申请专利范围第1项所述之方法,其中步骤(d) 系依据该点阵字型包含之复数笔点阵笔划资料代 码、复数笔点阵笔划资料起始位置组合成该点阵 字型。 12.如申请专利范围第1项所述之方法,其另包含步 骤(e):针对步骤(d)所组成之点阵字型进行微调。 13.如申请专利范围第12项所述之方法,其中步骤(e) 系为利用微调笔划位移、换笔划或减笔划之方式 进行微调。 图式简单说明: 第1图为本发明字型产生方法之流程图。 第2图为一单色横笔点阵笔划资料之示意图。 第3图为一单色横笔点阵笔划资料缩小后之一灰阶 横笔点阵笔划资料之示意图。 第4图为一点阵笔划资料依据其于一矩阵字框内之 起始位置(Dx, Dy)描绘于该矩阵字框内之示意图。 第5图-第7图为本发明针对输出之点阵字型微调之 三种实施例。 |
