| 发明名称 | 支持记录介质快速最终定形的方法和装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及使双层盘片介质最终定形(Finalization)的方法和装置。本发明检查双层记录介质中彼此分离的每一层记录层上的特定区域(例如，数据区的最内部圆周和半径为4厘米的区域附近)是否是空白，并且将空值数据记录到被发现是空白特定区域中并实现最终定形。本发明的优点在于，与将空值数据记录到全部的未记录数据段中的常规过程相比，最终定形所需时间减少了许多。 | ||
| 申请公布号 | CN1917073A | 申请公布日期 | 2007.02.21 |
| 申请号 | CN200610109173.2 | 申请日期 | 2006.08.07 |
| 申请人 | LG电子株式会社 | 发明人 | 李宰喆 |
| 分类号 | G11B20/10(2006.01);G11B20/12(2006.01);H04N5/91(2006.01) | 主分类号 | G11B20/10(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 刘佳 |
| 主权项 | 1.一种在记录装置中的双层记录介质上进行最终定形的方法，它包括：检查所述记录介质的每一记录层上的特定区域是否包括空白数据段，所述特定区域彼此分开；以及如果所述特定区域中的至少一个包括空白数据段，则将空值数据记录到所述空白段中。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||