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经营范围
发明名称
平台装置、微影装置及器件制造方法
摘要
为提高微影装置之生产率,描述一种用于固持两个图案化器件之平台装置。该等图案化器件经配置使得在扫描方向中该等图案之间的距离对应于在扫描方向中该图案之长度。藉此,可藉由用一第一图案曝光一第一晶粒、跳过邻近该第一晶粒的一第二晶粒且使用一第二图案曝光邻近该第二晶粒的一第三晶粒来执行改良之曝光顺序。
申请公布号
TW200707138
申请公布日期
2007.02.16
申请号
TW095123721
申请日期
2006.06.30
申请人
ASML公司
发明人
艾瑞克 罗勒夫 洛卜史塔;阿诺 珍 布莱克;汉尼 麦勒 莫德;奥斯卡 法兰西斯科 乔瑟夫 诺德曼;FRANCISCUS JOZEPHUS;提姆瑟 法兰西斯 参格;罗伦堤 卡纳 杰瑞玛;马克 特曼;盖瑞特 史崔特克
分类号
G03F9/00(2006.01)
主分类号
G03F9/00(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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